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納米壓印機在日常使用中具有眾多特征
納米壓印機在日常使用中具有眾多特征
更新時(shí)間：2024-03-27 | 點(diǎn)擊率：1003
納米壓印機
具有紫外線(xiàn)納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對準系統，支持尺寸從碎片到最大150毫米。
該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并可選擇背面對準。此外，該系統還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻。納米壓印機提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶(hù)需求，光刻和NIL之間的轉換時(shí)間僅為幾分鐘。其先進(jìn)的多用戶(hù)概念可以適應從初學(xué)者到專(zhuān)家級別的所有需求，因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應用程序的理想選擇。
對于壓印工藝，本產(chǎn)品允許基板的尺寸從小芯片尺寸到直徑150毫米不等。納米技術(shù)應用的配置除了可編程的高和低接觸力外，還可以包括印章的釋放機制。本產(chǎn)品專(zhuān)有的卡盤(pán)設計可提供均勻的接觸力，以實(shí)現高產(chǎn)量的壓印，該卡盤(pán)設計既支持軟印章也支持硬印章。
納米壓印機的使用
特征：
1、頂部和底部對準能力；
2、高精度對準臺；
3、自動(dòng)楔形誤差補償機制；
4、電動(dòng)和配方控制的曝光間隙；
5、支持最新的UV-LED技術(shù)；
6、最小化系統占地面積和設施要求；
7、分步流程指導；
8、遠程技術(shù)支持；
9、多用戶(hù)概念；
10、敏捷處理和光刻工藝之間的轉換；
11、臺式或帶防震花崗巖臺的單機版。
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