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納米壓印機在日常使用中具有眾多特征

更新時(shí)間:2024-03-27  |  點(diǎn)擊率:1003
  納米壓印機具有紫外線(xiàn)納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對準系統,支持尺寸從碎片到最大150毫米。
 
  該工具支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并可選擇背面對準。此外,該系統還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻。納米壓印機提供快速的處理和重新安裝工具,以改變用戶(hù)需求,光刻和NIL之間的轉換時(shí)間僅為幾分鐘。其先進(jìn)的多用戶(hù)概念可以適應從初學(xué)者到專(zhuān)家級別的所有需求,因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應用程序的理想選擇。

  對于壓印工藝,本產(chǎn)品允許基板的尺寸從小芯片尺寸到直徑150毫米不等。納米技術(shù)應用的配置除了可編程的高和低接觸力外,還可以包括印章的釋放機制。本產(chǎn)品專(zhuān)有的卡盤(pán)設計可提供均勻的接觸力,以實(shí)現高產(chǎn)量的壓印,該卡盤(pán)設計既支持軟印章也支持硬印章。
 

 

  納米壓印機的使用特征:
  1、頂部和底部對準能力;
  2、高精度對準臺;
  3、自動(dòng)楔形誤差補償機制;
  4、電動(dòng)和配方控制的曝光間隙;
  5、支持最新的UV-LED技術(shù);
  6、最小化系統占地面積和設施要求;
  7、分步流程指導;
  8、遠程技術(shù)支持;
  9、多用戶(hù)概念;
  10、敏捷處理和光刻工藝之間的轉換;
  11、臺式或帶防震花崗巖臺的單機版。
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