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等離子去膠

簡(jiǎn)要描述:等離子去膠工藝擁有低污染顆粒,低成本大規模量產(chǎn),高均勻性與高可復制性等工藝特征。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):代理商
  • 產(chǎn)品資料:查看pdf文檔
  • 更新時(shí)間:2024-03-19
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量: 2532

詳細介紹

boffotto 寶豐堂自主研發(fā)設計生產(chǎn)的先進(jìn)干法去膠、掩膜蝕刻系列產(chǎn)品,可用于大批量去膠與大劑量離子注入后去膠,同時(shí)還可用于各種硬掩膜層干法蝕刻。

微波等離子清洗,等離子去膠工藝擁有低污染顆粒,低成本大規模量產(chǎn),高均勻性與高可復制性等工藝特征。采用高度模塊化設計,為廣大客戶(hù)提供多樣靈活配置方案,滿(mǎn)足不同的先進(jìn)制程要求。

 
等離子去膠應用領(lǐng)域:
1、LDI后光刻膠去除;
2、光刻膠、聚合物去除(灰化);
3、大劑量離子注入后光刻膠去除;
4、二氧化硅、氮化硅、氮化鈦掩膜蝕刻;
5、碳化硅、氮化鎵、鉭酸鋰、磷化銦材料工藝;
6、射頻濾波器BAW,SAW生產(chǎn)工藝中光刻膠去除;
7、MEMS應用、晶圓級封裝(PR、PI、BCB、PBO)。

 

 

 

 

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